新项目视频背景 西安某光电器件厂生产制造步骤中并且导致高硅污水（SiO₂ 500-800mg/L）和含氟污水（F⁻ 200-300mg/L）。两类污水混杂而后容易演变成氟硅酸电解质溶液，常用化学积累法根本无法比较稳定符合标准化。项目流程让同歩出掉硅和氟（排放物标准化：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。 废水处理工艺成份及源头 主要营养成分 ：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇 來源 ：晶圆刻蚀电镀化工废水、CMP抛光电镀化工废水、设施冲干净水 补救艺步骤 融合放置时候 ： 两极症状池 ： 首先级加药Ca(OH)₂转换成CaF₂和CaSiO₃放置； 然后级加药系统PAC（配位碱式氯化铝）淬炼二沉池。 固液剥离 时候 ： 反渗透装置控制系统 ：按照0.02μm粒径膜控件截流电解质溶液硅和微细悠长岁月中物。 程度脱氟时段. ： 亲水性钝化铝吸塔 ：多余氟亚铁离子物理吸附快速清理。 然后实际效果 溢水SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远高于检测标准化。 反渗透装置系统性通量稳定的在15LMH，化学物质难以清理期限缩短至60天。 污泥干化经压滤后含水量率＜65%，可按通常情况固废处理外理。